Ultra-low-energy ion-beam-synthesis of Ge nanocrystals in thin ALD Al2O3 layers for memory applications
2009
Détails
Titre
Ultra-low-energy ion-beam-synthesis of Ge nanocrystals in thin ALD Al2O3 layers for memory applications
Auteur(s)
Dimitrakis, P ; Mouti, Anas ; Bonafos, Caroline ; Schamm, Sylvie ; BenAssayag, Gerard ; Ioannou-Sougleridis, V ; Schmidt, B ; Becker, J ; Normand, Pascal
Publié dans
Microelectronic Engineering
Numéro
86
Pages
1838-1841
Date
2009
Laboratoires
CIME
Le document apparaît dans
Production scientifique et compétences > SB - Faculté des sciences de base > CIME - Centre interdisciplinaire de microscopie électronique
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Travail hors EPFL
Articles de journaux
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Date de création de la notice
2009-11-09