Metal-Halide Perovskites for Gate Dielectrics in Field-Effect Transistors and Photodetectors Enabled by PMMA Lift-Off Process
2018
Détails
Titre
Metal-Halide Perovskites for Gate Dielectrics in Field-Effect Transistors and Photodetectors Enabled by PMMA Lift-Off Process
Auteur(s)
Daus, A ; Roldan-Carmona, C ; Domanski, K ; Knobelspies, S ; Cantarella, G ; Vogt, C ; Gratzel, M ; Nazeeruddin, MK ; Troster, G
Publié dans
Advanced Materials
Volume
30
Numéro
23
Pages
1707412
Date
2018
Autres identifiant(s)
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Production scientifique et compétences > SB - Faculté des sciences de base > ISIC - Institut des sciences et ingénierie chimiques > GMF - Groupe d'Ingénierie Moléculaire de Matériaux Fonctionnels
Production scientifique et compétences > SB - Faculté des sciences de base > ISIC - Institut des sciences et ingénierie chimiques > LPI - Laboratoire de photonique et interfaces
Publications validées par des pairs
Travail produit à l'EPFL
Articles de journaux
Publié
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Date de création de la notice
2018-11-08