Growth optimization of vanadium dioxide films on SiO2/Si substrates
2014
Détails
Titre
Growth optimization of vanadium dioxide films on SiO2/Si substrates
Auteur(s)
Vitale, Wolfgang Amadeus ; Paone, Antonio ; Moldovan, Clara Fausta ; Schueler, Andreas ; Ionescu, Mihai Adrian
Présenté à
40th Micro and Nano Engineering, Lausanne, Switzerland, September 22-26, 2014
Date
2014
Le document apparaît dans
Production scientifique et compétences > ENAC - Faculté de l'environnement naturel, architectural et construit > IIC - Institut d'ingénierie civile > LESO-PB - Laboratoire d'énergie solaire et physique du bâtiment
Production scientifique et compétences > STI - Faculté des sciences et techniques de l'ingénieur > IEM - Institute of Electrical and Micro Engineering > NANOLAB - Laboratoire des dispositifs nanoélectroniques
Production scientifique et compétences > STI - Faculté des sciences et techniques de l'ingénieur > CMI - Centre de MicroNanoTechnologie
Publications validées par des pairs
Papiers de conférence
Travail produit à l'EPFL
Accepté
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Travail produit à l'EPFL
Accepté
Date de création de la notice
2014-07-20