Nanomechanical Mass Sensor for Spatially Resolved Ultrasensitive Monitoring of Deposition Rates in Stencil Lithography
2009
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Détails
Titre
Nanomechanical Mass Sensor for Spatially Resolved Ultrasensitive Monitoring of Deposition Rates in Stencil Lithography
Auteur(s)
Arcamone, Julien ; Sansa, Marc ; Verd, Jaume ; Uranga, Arantxa ; Abadal, Gabriel ; Barniol, Nuria ; van den Boogaart, Marc ; Brugger, Juergen ; Perez-Murano, Francesc
Publié dans
Small
Volume
5
Pages
176-180
Date
2009
Editeur
Wiley-Blackwell
ISSN
1613-6810
Mots-clés (libres)
Autres identifiant(s)
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Laboratoires
LMIS1
Le document apparaît dans
Production scientifique et compétences > STI - Faculté des sciences et techniques de l'ingénieur > IEM - Institute of Electrical and Micro Engineering > LMIS1 - Laboratoire de microsystèmes 1
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Travail produit à l'EPFL
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Date de création de la notice
2009-01-28