Measurement of substrate charging after plasma processing
2001
Détails
Titre
Measurement of substrate charging after plasma processing
Auteur(s)
Howling, A. ; Sansonnens, L. ; Hollenstein, Ch. ; Belinger, A. ; Perrin, J.
Publié dans
Proc. Frontiers in Low Temperature Plasma Diagnostics IV
Présenté à
Frontiers in Low Temperature Plasma Diagnostics IV
Date
2001
Note
Proc. Frontiers in Low Temperature Plasma Diagnostics IV, Rolduc, Netherlands, March 2001, p. 230
Laboratoires
CRPP
SPC
SPC
Le document apparaît dans
Production scientifique et compétences > SB - Faculté des sciences de base > SPC - Swiss Plasma Center > SPC - Swiss Plasma Center
Publications validées par des pairs
Papiers de conférence
Travail produit à l'EPFL
Publié
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Date de création de la notice
2008-05-13