Plasma deposition of p-i-n devices in a single-chamber larger area PECVC reactor: Reduction of the Boron cross-contamination
2003
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Détails
Titre
Plasma deposition of p-i-n devices in a single-chamber larger area PECVC reactor: Reduction of the Boron cross-contamination
Auteur(s)
Ballutaud, J. ; Bucher, C. ; Hollenstein, Ch. ; Howling, A.A. ; Kroll, U. ; Benagli, S. ; Shah, A. ; Buechel, A.
Date
2003
Mots-clés (libres)
Laboratoires
CRPP
SPC
SPC
Le document apparaît dans
Production scientifique et compétences > SB - Faculté des sciences de base > SPC - Swiss Plasma Center > SPC - Swiss Plasma Center
Travail produit à l'EPFL
Rapports techniques
Publié
Travail produit à l'EPFL
Rapports techniques
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Date de création de la notice
2008-04-18