Electron beam induced deposition of rhodium from the precursor [RhCl(PF3)2]2: morphology, structure and chemical composition
2004
Détails
Titre
Electron beam induced deposition of rhodium from the precursor [RhCl(PF3)2]2: morphology, structure and chemical composition
Auteur(s)
Cicoira, F. ; Leifer, K. ; Hoffmann, P. ; Utke, I. ; Dwir, B. ; Laub, D. ; Buffat, P. A. ; Kapon, E. ; Doppelt, P.
Publié dans
Journal of Crystal Growth
Volume
265
Numéro
3-4
Pages
619-626
Date
2004
Editeur
Elsevier
ISSN
0022-0248
Mots-clés (libres)
Note
pdf publi05
Autres identifiant(s)
Afficher la publication dans Web of Science
Le document apparaît dans
Production scientifique et compétences > SB - Faculté des sciences de base > SB Archives > LPN - Laboratoire de physique des nanostructures
Production scientifique et compétences > SB - Faculté des sciences de base > CIME - Centre interdisciplinaire de microscopie électronique
Publications validées par des pairs
Travail produit à l'EPFL
Articles de journaux
Publié
Production scientifique et compétences > SB - Faculté des sciences de base > CIME - Centre interdisciplinaire de microscopie électronique
Publications validées par des pairs
Travail produit à l'EPFL
Articles de journaux
Publié
Date de création de la notice
2007-02-15