Déposition assistée par plasma radiofréquence dans un réacteur de grande surface: effets de la contamination particulaire et de la fréquence d'excitation

Sansonnens, L.2008-04-182008-04-182008-04-181998https://infoscience.epfl.ch/handle/20.500.14299/23185LRP 602Déposition assistée par plasma radiofréquence dans un réacteur de grande surface: effets de la contamination particulaire et de la fréquence d'excitationtext::report