Internal Photoemission-Studies of Artificial Band Discontinuities at Buried Gaas(100) Gaas(100) Homojunctions
1994
Résumé
Internal photoemission phototransport measurements revealed 0.27+/-0.04 eV conduction- and valence-band discontinuities induced by a Si intralayer at p-GaAs(100)/n-GaAs(100) homojunctions. The interface dipole originating from the heterovalent character of the Si-GaAs bonds raises the bands of the GaAs overlayer above that of the GaAs subtrate.
Détails
Titre
Internal Photoemission-Studies of Artificial Band Discontinuities at Buried Gaas(100) Gaas(100) Homojunctions
Auteur(s)
Dellorto, T. ; Almeida, J. ; Coluzza, C. ; Baldereschi, A. ; Margaritondo, G. ; Cantile, M. ; Yildirim, S. ; Sorba, L. ; Franciosi, A.
Publié dans
Applied Physics Letters
Volume
64
Numéro
16
Pages
2111-2113
Date
1994
ISSN
0003-6951
Mots-clés (libres)
Note
Lab tasc,i-34012 trieste,italy. univ minnesota,dept chem engn & mat sci,minneapolis,mn 55455. univ trieste,dipartimento fis,i-34127 trieste,italy. Dellorto, t, ecole polytech fed lausanne,ph ecublens,inst phys appl,ch-1015 lausanne,switzerland.
ISI Document Delivery No.: NG495
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Production scientifique et compétences > SB - Faculté des sciences de base > SB Archives > LPRX - Laboratoire de physique des rayons X
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Travail produit à l'EPFL
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Date de création de la notice
2006-10-03