The Photoemission Spectromicroscope Multiple-Application X-Ray-Imaging Undulator Microscope (Maximum)
1990
Détails
Titre
The Photoemission Spectromicroscope Multiple-Application X-Ray-Imaging Undulator Microscope (Maximum)
Auteur(s)
Ng, W. ; Raychaudhuri, A. K. ; Crossley, S. ; Crossley, D. ; Gong, C. ; Guo, J. ; Hansen, R. ; Margaritondo, G. ; Cerrina, F. ; Underwood, J. ; Perera, R. ; Kortright, J.
Publié dans
Journal of Vacuum Science & Technology a-Vacuum Surfaces and Films
Volume
8
Numéro
3
Pages
2563-2565
Date
1990
ISSN
0734-2101
Note
Univ wisconsin,ctr synchrotron radiat,madison,wi 53706. univ calif berkeley lawrence berkeley lab,ctr xray opt,berkeley,ca 94720. univ wisconsin,dept elect & comp engn,madison,wi 53706. Ng, w, univ wisconsin,dept phys,madison,wi 53706.
ISI Document Delivery No.: DG238
Part 2
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Production scientifique et compétences > SB - Faculté des sciences de base > SB Archives > LSE - Laboratoire de spectroscopie électronique
Production scientifique et compétences > SB - Faculté des sciences de base > SB Archives > LPRX - Laboratoire de physique des rayons X
Publications validées par des pairs
Travail produit à l'EPFL
Articles de journaux
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Date de création de la notice
2006-10-03