Schottky Barrier Formation by Silicon Deposition on Unreactive and Reactive Metal Substrates
1989
Détails
Titre
Schottky Barrier Formation by Silicon Deposition on Unreactive and Reactive Metal Substrates
Auteur(s)
Chang, Y. ; Hanson, J. ; Hwu, Y. ; Zanini, F. ; Margaritondo, G.
Publié dans
Journal of Vacuum Science & Technology a-Vacuum Surfaces and Films
Volume
7
Numéro
3
Pages
717-719
Date
1989
ISSN
0734-2101
Note
Univ wisconsin,dept phys,madison,wi 53706. univ wisconsin,ctr synchrotron radiat,madison,wi 53706.
ISI Document Delivery No.: U7153
Part 1
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Production scientifique et compétences > SB - Faculté des sciences de base > SB Archives > LPRX - Laboratoire de physique des rayons X
Publications validées par des pairs
Travail produit à l'EPFL
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Date de création de la notice
2006-10-03