Ultrafast Uv-Laser-Induced Oxidation of Silicon - Control and Characterization of the Si-Sio2 Interface
1984
Détails
Titre
Ultrafast Uv-Laser-Induced Oxidation of Silicon - Control and Characterization of the Si-Sio2 Interface
Auteur(s)
Richter, H. ; Orlowski, T. E. ; Kelly, M. ; Margaritondo, G.
Publié dans
Journal of Applied Physics
Volume
56
Numéro
8
Pages
2351-2355
Date
1984
ISSN
0021-8979
Note
Univ wisconsin,dept phys,madison,wi 53706. Richter, h, xerox corp,webster res ctr,rochester,ny 14644.
ISI Document Delivery No.: TL568
ISI Document Delivery No.: TL568
Le document apparaît dans
Production scientifique et compétences > SB - Faculté des sciences de base > SB Archives > LSE - Laboratoire de spectroscopie électronique
Production scientifique et compétences > SB - Faculté des sciences de base > SB Archives > LPRX - Laboratoire de physique des rayons X
Publications validées par des pairs
Travail produit à l'EPFL
Articles de journaux
Publié
Production scientifique et compétences > SB - Faculté des sciences de base > SB Archives > LPRX - Laboratoire de physique des rayons X
Publications validées par des pairs
Travail produit à l'EPFL
Articles de journaux
Publié
Date de création de la notice
2006-10-03