Reduction of Silicon-Aluminum Interdiffusion by Improved Semiconductor Surface Ordering
1984
Détails
Titre
Reduction of Silicon-Aluminum Interdiffusion by Improved Semiconductor Surface Ordering
Auteur(s)
Brillson, L. J. ; Slade, M. L. ; Katnani, A. D. ; Kelly, M. ; Margaritondo, G.
Publié dans
Applied Physics Letters
Volume
44
Numéro
1
Pages
110-112
Date
1984
ISSN
0003-6951
Note
Univ wisconsin,dept phys,madison,wi 53706. Brillson, lj, xerox corp,webster res ctr,webster,ny 14580.
ISI Document Delivery No.: RZ083
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Production scientifique et compétences > SB - Faculté des sciences de base > SB Archives > LSE - Laboratoire de spectroscopie électronique
Production scientifique et compétences > SB - Faculté des sciences de base > SB Archives > LPRX - Laboratoire de physique des rayons X
Publications validées par des pairs
Travail produit à l'EPFL
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Date de création de la notice
2006-10-03