Development of relaxor ferroelectric materials for screen-printing on alumina and silicon substrates
Gentil, S.; Damjanovic, D.; Setter, N.
2005

Résumé

The paper describes processing and dielectric properties of 0.65Pb(Mn1/3Nb2/3)O-3-0.35PbTiO(3) films deposited on alumina and silicon substrates by screen-printing. Ink development and problems associated with adhesion of electrodes to substrate are discussed in detail. The relative dielectric permittivity, as large as 13,000 have been obtained on SiO2 substrate after processing optimization. (c) 2005 Elsevier Ltd. All rights reserved.

Détails

Titre Development of relaxor ferroelectric materials for screen-printing on alumina and silicon substrates
Auteur(s) Gentil, S. ; Damjanovic, D. ; Setter, N.
Publié dans Journal of the European Ceramic Society
Volume 25
Numéro 12
Pages 2125-2128
Date 2005
ISSN 0955-2219
Mots-clés (libres)
Note Gentil, S Ecole Polytech Fed Lausanne, Swiss Fed Inst Technol, Mat Inst, Ceram Lab, CH-1015 Lausanne, Switzerland Ecole Polytech Fed Lausanne, Swiss Fed Inst Technol, Mat Inst, Ceram Lab, CH-1015 Lausanne, Switzerland
946JW
Cited References Count:5
DOI https://doi.org/10.1016/j.jeurceramsoc.2005.03.210
Autres identifiant(s) DAR: 7083
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Laboratoires LC
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Publié
Date de création de la notice 2006-08-21