Novel apparatus for the uniform heating of substrates during post-expose bake
2003
Détails
Titre
Novel apparatus for the uniform heating of substrates during post-expose bake
Auteur(s)
Hillman, Gary ; Infelta, Pierre
Publié dans
Advances in Resist Technology and Processing XX
Série
Proceedings of SPIE-The International Society for Optical Engineering, 5039
Volume
2
Pages
1319-1326
Date
2003
Laboratoires
LPI
Le document apparaît dans
Production scientifique et compétences > SB - Faculté des sciences de base > ISIC - Institut des sciences et ingénierie chimiques > LPI - Laboratoire de photonique et interfaces
Publications validées par des pairs
Papiers de conférence
Travail produit à l'EPFL
Publié
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Date de création de la notice
2006-02-21