Conducting thin films of ruthenium oxide prepared by MOCVD
1998
Détails
Titre
Conducting thin films of ruthenium oxide prepared by MOCVD
Auteur(s)
Hones, P. ; Kohli, C. H. ; Sanjines, R. ; Levy, F. ; Gerfin, T. ; Gratzel, M.
Publié dans
Materials Research Society Symposium Proceedings
Volume
514
Numéro
Advanced Interconnects and Contact Materials and Processes for Future Integrated Circuits
Pages
479-484
Date
1998
Autres identifiant(s)
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Laboratoires
LPI
Le document apparaît dans
Production scientifique et compétences > SB - Faculté des sciences de base > ISIC - Institut des sciences et ingénierie chimiques > LPI - Laboratoire de photonique et interfaces
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Travail produit à l'EPFL
Chapitres de livre
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Date de création de la notice
2006-02-21