Photoelectrochemical effects on p-silicon of ruthenium dioxide thin films
1984
Détails
Titre
Photoelectrochemical effects on p-silicon of ruthenium dioxide thin films
Auteur(s)
Gissler, W. ; McEvoy, A. J.
Publié dans
Solar Energy Materials
Volume
10
Numéro
3-4
Pages
309-16
Date
1984
Laboratoires
LPI
Le document apparaît dans
Production scientifique et compétences > SB - Faculté des sciences de base > ISIC - Institut des sciences et ingénierie chimiques > LPI - Laboratoire de photonique et interfaces
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Travail produit à l'EPFL
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Date de création de la notice
2006-02-21