Conductive SU8 Photoresist for Microfabrication
2005
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Résumé
A conductive composite photoresist has been developed for the direct photopatterning of electrodes. It is based on a dispersion of silver nanoparticles in SU8, a non-conductive, negative-tone photoresist. Manufactured structures have an electrical conductivity at a low silver content of around 6 vol.-%
Détails
Titre
Conductive SU8 Photoresist for Microfabrication
Auteur(s)
Jiguet, Sébastien ; Bertsch, Arnaud ; Hofmann, H. ; Renaud, Philippe
Publié dans
Advanced Functional Materials
Numéro
15
Pages
1511-1516
Date
2005
Autres identifiant(s)
DAR: 7577
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Laboratoires
LMIS4
Le document apparaît dans
Production scientifique et compétences > STI - Faculté des sciences et techniques de l'ingénieur > IEM - Institute of Electrical and Micro Engineering > LMIS4 - Laboratoire de microsystèmes 4
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Travail produit à l'EPFL
Articles de journaux
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Date de création de la notice
2005-09-21