HIGH-RESOLUTION ELECTRON-BEAM INJECTION IN SEMICONDUCTORS USING A SCANNING TUNNELING MICROSCOPE
1991
Détails
Titre
HIGH-RESOLUTION ELECTRON-BEAM INJECTION IN SEMICONDUCTORS USING A SCANNING TUNNELING MICROSCOPE
Auteur(s)
ALVARADO, SF ; Renaud, Philippe ; MEIER, HP
Publié dans
JOURNAL DE PHYSIQUE IV
Volume
1
Numéro
C6
Pages
271-275
Date
1991
Laboratoires
LMIS4
Le document apparaît dans
Production scientifique et compétences > STI - Faculté des sciences et techniques de l'ingénieur > IEM - Institute of Electrical and Micro Engineering > LMIS4 - Laboratoire de microsystèmes 4
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Travail hors EPFL
Articles de journaux
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Date de création de la notice
2005-09-16