Déposition assistée par un plasma à arc à haut courant continu de couches minces de nitrure de bore et de silicium microcristallin hydrogéné


Advisor(s):
Hollenstein, Christoph
Year:
1999
Publisher:
Lausanne, EPFL
Laboratories:
SPC
CRPP


Note: The status of this file is: EPFL only


 Record created 2005-03-16, last modified 2018-05-01

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