High resolution lithography based on deep ultra-violet total-internal-reflection holography using surface-relief techniques
1999
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Détails
Titre
High resolution lithography based on deep ultra-violet total-internal-reflection holography using surface-relief techniques
Auteur(s)
Han, Woo-Sung
Directeur(s)
Pagination
130
Date
1999
Editeur
Lausanne, EPFL
Langue
Anglais
Le document apparaît dans
Production scientifique et compétences > Thèses EPFL
Travail produit à l'EPFL
Publié
Thèses
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Date de création de la notice
2005-03-16