Epitaxy and characterization of Si1-x-yGexCy alloy layers grown on (100) Si by rapid thermal chemical vapor deposition
1995
Fichiers
Détails
Titre
Epitaxy and characterization of Si1-x-yGexCy alloy layers grown on (100) Si by rapid thermal chemical vapor deposition
Auteur(s)
Mi, Jian
Directeur(s)
Pagination
141
Date
1995
Editeur
Lausanne, EPFL
Langue
Anglais
Le document apparaît dans
Production scientifique et compétences > Thèses EPFL
Travail produit à l'EPFL
Publié
Thèses
Travail produit à l'EPFL
Publié
Thèses
Date de création de la notice
2005-03-16