Amorphous gallium oxide grown by low-temperature PECVD
2018
Files
Détails
Titre
Amorphous gallium oxide grown by low-temperature PECVD
Auteur(s)
Kobayashi, Eiji ; Boccard, Mathieu ; Jeangros, Quentin ; Rodkey, Nathan ; Vresilovic, Daniel ; Hessler-Wyser, Aïcha ; Döbeli, Max ; Franta, Daniel ; De Wolf, Stefaan ; Morales-Masis, Monica ; Ballif, Christophe
Publié dans
Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films
Volume
36
Numéro
2
Pages
021518
Date
2018-03-02
Autres identifiant(s)
DOI: https://doi.org/10.1116/1.5018800
Laboratoires
PV-LAB
Le document apparaît dans
Production scientifique et compétences > STI - Faculté des sciences et techniques de l'ingénieur > IEM - Institute of Electrical and Micro Engineering > PV-LAB - Laboratoire de photovoltaïque et couches minces électroniques
Production scientifique et compétences > Partenaires EPFL > Campus Neuchâtel > PV-Lab - Laboratoire de photovoltaïque et couches minces électroniques
Publications validées par des pairs
Travail produit à l'EPFL
Articles de journaux
Publié
Production scientifique et compétences > Partenaires EPFL > Campus Neuchâtel > PV-Lab - Laboratoire de photovoltaïque et couches minces électroniques
Publications validées par des pairs
Travail produit à l'EPFL
Articles de journaux
Publié
Grant
EU funding: 609788
EU funding: PV2050
FNS: CRSII2_154474
EU funding: PV2050
FNS: CRSII2_154474
Date de création de la notice
2018-05-15