Phenomenology of electron-beam-induced photoresist shrinkage trends
2009
Détails
Titre
Phenomenology of electron-beam-induced photoresist shrinkage trends
Auteur(s)
Bunday, Benjamin ; Cordes, Aaron ; Allgair, John ; Tileli, Vasiliki ; Avitan, Yohanan ; Peltinov, Ram ; Bar-zvi, Maayan ; Adan, Ofer ; Cottrell, Eric ; Hand, Sean
Publié dans
SPIE Advanced Lithography
Pages
72721B-72721B
Date
2009
Editeur
International Society for Optics and Photonics
Laboratoires
INE
Le document apparaît dans
Production scientifique et compétences > STI - Faculté des sciences et techniques de l'ingénieur > IMX - Institut des matériaux > INE - Laboratoire pour la caractérisation in situ des nanomatériaux par des électrons
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Travail hors EPFL
Papiers de conférence
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Date de création de la notice
2016-04-22