The shine-through masking paradigm is a potential endophenotype of schizophrenia
Chkonia, Eka; Roinishvili, Maya; Makhatadze, Natia; Tsverava, Lidia; Stroux, Andrea; Neumann, Konrad; Herzog, Michael H.; Brand, Andreas
2010

Fichiers

Résumé

Background: To understand the genetics of schizophrenia, a hunt for so-called intermediate phenotypes or endophenotypes is ongoing. Visual masking has been proposed to be such an endophenotype. However, no systematic study has been conducted yet to prove this claim. Here, we present the first study showing that masking meets the most important criteria for an endophenotype.

Détails

Titre The shine-through masking paradigm is a potential endophenotype of schizophrenia
Auteur(s) Chkonia, Eka ; Roinishvili, Maya ; Makhatadze, Natia ; Tsverava, Lidia ; Stroux, Andrea ; Neumann, Konrad ; Herzog, Michael H. ; Brand, Andreas
Publié dans PLoS ONE
Volume 5
Numéro 12
Pages e14268
Date 2010
Editeur Public Library of Science
ISSN 1932-6203
Mots-clés (libres)
DOI https://doi.org/10.1371/journal.pone.0014268
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Laboratoires LPSY
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Date de création de la notice 2011-01-20

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