Résumé
We propose the combination of a planar optical resonator and a solid immersion lens for resonantly enhanced non-contact near-field lithography. Subwavelength small spots can be produced by exciting the Bessel modes of the resonator. (C) 2008 Optical Society of America
Détails
Titre
Resonantly Enhanced Near-Field Lithography
Auteur(s)
Tsang, Mankei ; Psaltis, Demetri
Publié dans
2008 Conference On Lasers And Electro-Optics & Quantum Electronics And Laser Science Conference, Vols 1-9
Pages
3495-3496
Présenté à
Conference on Lasers and Electro-Optics/Quantum Electronics and Laser Science Conference, San Jose, CA, May 04-09, 2008
Date
2008
Editeur
Ieee Service Center, 445 Hoes Lane, Po Box 1331, Piscataway, Nj 08855-1331 Usa
Autres identifiant(s)
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Laboratoires
LO
Le document apparaît dans
Production scientifique et compétences > STI - Faculté des sciences et techniques de l'ingénieur > IEM - Institute of Electrical and Micro Engineering > LO - Laboratoire d'optique
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Papiers de conférence
Travail produit à l'EPFL
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Date de création de la notice
2010-11-25