Static vapor pressure measurements of low volatile precursors for Molecular Vapor Deposition below ambient temperature
2001
Détails
Titre
Static vapor pressure measurements of low volatile precursors for Molecular Vapor Deposition below ambient temperature
Auteur(s)
Ohta, T. ; Cicoira, F. ; Doppelt, P. ; Beitone, L. ; Hoffmann, P.
Publié dans
Chemical Vapor Deposition
Volume
7
Numéro
1
Pages
33-37
Date
2001
Mots-clés (libres)
Note
\\Atlantis\MAD\MAD public\Publi Present Conferences\Publications\printed papers\2001 : NRG Ohta 2001 115
Laboratoires
LOA
Le document apparaît dans
Production scientifique et compétences > STI - Faculté des sciences et techniques de l'ingénieur > STI Archives > LOA - Laboratoire d'optique appliquée Prof. Salathé
Travail produit à l'EPFL
Articles de journaux
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Date de création de la notice
2009-07-20