Electron beam induced deposition of metallic tips and wires for microelectronics applications
2000
Détails
Titre
Electron beam induced deposition of metallic tips and wires for microelectronics applications
Auteur(s)
Utke, I. ; Dwir, B. ; Leifer, K. ; Cicoira, F. ; Doppelt, P. ; Hoffmann, P. ; Kapon, E.
Publié dans
Microelectronic Engineering
Volume
53
Numéro
1-4
Pages
261-264
Date
2000
Mots-clés (libres)
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URL
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Production scientifique et compétences > STI - Faculté des sciences et techniques de l'ingénieur > STI Archives > LOA - Laboratoire d'optique appliquée Prof. Salathé
Production scientifique et compétences > SB - Faculté des sciences de base > SB Archives > LPN - Laboratoire de physique des nanostructures
Publications validées par des pairs
Travail produit à l'EPFL
Articles de journaux
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Date de création de la notice
2009-07-20