Investigation of Strain Profile Optimization in Gate-All-Around Suspended Silicon Nanowire FET
2008
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Détails
Titre
Investigation of Strain Profile Optimization in Gate-All-Around Suspended Silicon Nanowire FET
Auteur(s)
Najmzadeh, Mohammad ; Moselund, Kirsten Emilie ; Dobrosz, P. ; Olsen, S. ; ONeill, A. ; Ionescu, Mihai Adrian
Publié dans
The 38th European Solid-State Device Research Conference (IEEE ESSDERC 2008)
Présenté à
IEEE ESSDERC 2008, Edinburgh, Scotland, Sep. 15-19, 2008
Date
2008
Mots-clés (libres)
Laboratoires
NANOLAB
Le document apparaît dans
Production scientifique et compétences > STI - Faculté des sciences et techniques de l'ingénieur > IEM - Institute of Electrical and Micro Engineering > NANOLAB - Laboratoire des dispositifs nanoélectroniques
Papiers de conférence
Travail produit à l'EPFL
Publié
Papiers de conférence
Travail produit à l'EPFL
Publié
Date de création de la notice
2009-07-15