Détails
Titre
Photopatterning at thick photoresist layers for MEMS applications.
Auteur(s)
ROTH, Sylvain
Directeur(s)
Date
2000
Editeur
Université de Neuchâtel
Note
Jury: M. Koudelka-Hep (IMT–Uni-NE), J. Bergqvist (CSEM).
Laboratoires
SAMLAB
Le document apparaît dans
Production scientifique et compétences > STI - Faculté des sciences et techniques de l'ingénieur > STI Archives > SAMLAB - Laboratoire de capteurs, actuateurs et microsystèmes
Travail hors EPFL
Thèses
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Date de création de la notice
2009-05-12