Realization miniaturised low voltage electron beam system for lithography application.
1997
Détails
Titre
Realization miniaturised low voltage electron beam system for lithography application.
Auteur(s)
DESPONT, Michel
Directeur(s)
Date
1997
Editeur
Université de Neuchâtel
Note
Jury: H.P. Herzig (IMT-UniNE), P. Vettiger (IBM ZH), P. Chang (IBM ZH), U. Staufer (Uni Bâle).
Laboratoires
SAMLAB
Le document apparaît dans
Production scientifique et compétences > STI - Faculté des sciences et techniques de l'ingénieur > STI Archives > SAMLAB - Laboratoire de capteurs, actuateurs et microsystèmes
Travail hors EPFL
Thèses
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Date de création de la notice
2009-05-12