Patterned Thick Photoresist Layers for Protection of Protruding Structures During Wet and Dry Etching Processes
1997
Détails
Titre
Patterned Thick Photoresist Layers for Protection of Protruding Structures During Wet and Dry Etching Processes
Auteur(s)
Indermühle, P.-F. ; Dellmann, L. ; Roth, S. ; de Rooij, N. F.
Publié dans
Micromechanics Europe '97
Pages
39-42
Date
1997
Laboratoires
SAMLAB
Le document apparaît dans
Production scientifique et compétences > STI - Faculté des sciences et techniques de l'ingénieur > STI Archives > SAMLAB - Laboratoire de capteurs, actuateurs et microsystèmes
Travail hors EPFL
Papiers de conférence
Publié
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Date de création de la notice
2009-05-12