Thermal and Laser assisted TiO2-SiO2 graded index Ultra-high Vacuum Chemical Vapor Deposition (UHV-CVD)
2004
Détails
Titre
Thermal and Laser assisted TiO2-SiO2 graded index Ultra-high Vacuum Chemical Vapor Deposition (UHV-CVD)
Auteur(s)
Benvenuti, G. ; Banakh, O. ; Brioude, A. ; Gaillard, C. ; Hoffmann, P.
Présenté à
ICPEPA-4, Lecce, Italy, 6.09. - 9.09.2004
Date
2004
Mots-clés (libres)
Laboratoires
LOA
Le document apparaît dans
Production scientifique et compétences > STI - Faculté des sciences et techniques de l'ingénieur > STI Archives > LOA - Laboratoire d'optique appliquée Prof. Salathé
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Date de création de la notice
2009-05-05