Etude, déposition et caractérisation de matériau transparent pour la photolithographie à 157 et 193nm de longueur d’onde
2005
Details
Title
Etude, déposition et caractérisation de matériau transparent pour la photolithographie à 157 et 193nm de longueur d’onde
Author(s)
Thivolle, N.
Date
2005
Keywords
Laboratories
LOA
Record Appears in
Scientific production and competences > STI - School of Engineering > STI Archives > LOA - Advanced Photonics Laboratory
Work produced at EPFL
Student projects
Work produced at EPFL
Student projects
Work type
Diploma work
Record creation date
2009-03-17