Charging dynamics of localized 2D layers of Si nanocrystals embedded into SiO2 by stencil masked ultra low energy ion implantation process
2008
Fichiers
Détails
Titre
Charging dynamics of localized 2D layers of Si nanocrystals embedded into SiO2 by stencil masked ultra low energy ion implantation process
Auteur(s)
Dumas, C. ; Grisolia, J. ; Carrey, J. ; Arbouet, A. ; Paillard, V. ; BenAssayag, G. ; Schamm, S. ; Bonafos, C. ; van den Boogaart, M.A.F. ; Savu, V. ; Brugger, J. ; Normand, P.
Publié dans
Materials and emerging technologies for non-volatile-memory devices
Présenté à
European Materials Research Society (EMRS 2008): Symposium H: Materials and emerging technologies for non-volatile-memory devices, Strasbourg, France, June 26-30 2008.
Date
2008
Laboratoires
LMIS1
Le document apparaît dans
Production scientifique et compétences > STI - Faculté des sciences et techniques de l'ingénieur > IEM - Institute of Electrical and Micro Engineering > LMIS1 - Laboratoire de microsystèmes 1
Publications validées par des pairs
Papiers de conférence
Travail produit à l'EPFL
Publié
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Travail produit à l'EPFL
Publié
Date de création de la notice
2009-03-03