Minimized Blurring in Stencil Lithography using a Compliant Membrane
2009
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Détails
Titre
Minimized Blurring in Stencil Lithography using a Compliant Membrane
Auteur(s)
Sidler, K. ; Villanueva, G. ; Vazquez-Mena, O. ; Brugger, J.
Présenté à
The 15th International Conference on Solid-State Sensors, Actuators and Microsystems (Transducers 2009), Denver, Colorado, USA, June 21-25 2009
Date
2009
Le document apparaît dans
Production scientifique et compétences > STI - Faculté des sciences et techniques de l'ingénieur > IEM - Institute of Electrical and Micro Engineering > LMIS1 - Laboratoire de microsystèmes 1
Production scientifique et compétences > STI - Faculté des sciences et techniques de l'ingénieur > IGM - Institut de génie mécanique > NEMS - Laboratoire de systèmes nano-électromécaniques
Présentations & Talks
Travail produit à l'EPFL
Publié
Production scientifique et compétences > STI - Faculté des sciences et techniques de l'ingénieur > IGM - Institut de génie mécanique > NEMS - Laboratoire de systèmes nano-électromécaniques
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Travail produit à l'EPFL
Publié
Date de création de la notice
2009-03-02