High quality surface passivation and heterojunction fabrication by VHF-PECVD deposition of amorphous silicon on crystalline Si: theory and experiments
2008
Fichiers
Détails
Titre
High quality surface passivation and heterojunction fabrication by VHF-PECVD deposition of amorphous silicon on crystalline Si: theory and experiments
Auteur(s)
Fesquet, Luc ; Olibet, Sara ; Vallat-Sauvain, Evelyne ; Shah, Arvind ; Ballif, Christophe
Présenté à
23rd European Photovoltaic Solar Energy Conference and Exhibition (EU-PVSEC), Valencia, Spain, 1-5 September 2008
Date
2008
Note
IMT-NE Number: 459, 460
Laboratoires
PV-LAB
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Production scientifique et compétences > STI - Faculté des sciences et techniques de l'ingénieur > IEM - Institute of Electrical and Micro Engineering > PV-LAB - Laboratoire de photovoltaïque et couches minces électroniques
Production scientifique et compétences > Partenaires EPFL > Campus Neuchâtel > PV-Lab - Laboratoire de photovoltaïque et couches minces électroniques
Publications validées par des pairs
Travail hors EPFL
Papiers de conférence
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Date de création de la notice
2009-02-10