Intrinsic Microcrystalline Silicon (µc-Si:H) Deposited by VHF-GD (Very High Frequency-Glow Discharge): a New Material for Photovoltaics and Optoelectronics
2000
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Détails
Titre
Intrinsic Microcrystalline Silicon (µc-Si:H) Deposited by VHF-GD (Very High Frequency-Glow Discharge): a New Material for Photovoltaics and Optoelectronics
Auteur(s)
Shah, A. ; Vallat-Sauvain, E. ; Torres, P. ; Meier, J. ; Kroll, U. ; Hof, C. ; Droz, C. ; Goerlitzer, M. ; Wyrsch, N. ; Vanecek, M.
Publié dans
Materials Science and Engineering B
Volume
69-70
Pages
219-226
Date
2000
Note
IMT-NE Number: 302
Laboratoires
PV-LAB
Le document apparaît dans
Production scientifique et compétences > STI - Faculté des sciences et techniques de l'ingénieur > IEM - Institute of Electrical and Micro Engineering > PV-LAB - Laboratoire de photovoltaïque et couches minces électroniques
Production scientifique et compétences > Partenaires EPFL > Campus Neuchâtel > PV-Lab - Laboratoire de photovoltaïque et couches minces électroniques
Publications validées par des pairs
Travail hors EPFL
Articles de journaux
Publié
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Date de création de la notice
2009-02-10