Comparison of VHF, RF and DC Plasma Excitation for a-Si:H Deposition with Hydrogen Dilution
1998
Fichiers
Détails
Titre
Comparison of VHF, RF and DC Plasma Excitation for a-Si:H Deposition with Hydrogen Dilution
Auteur(s)
Platz, R. ; Hof, C. ; Rech, B. ; Wieder, S. ; Payne, A. ; Wagner, S. ; Fischer, D. ; Shah, A.
Publié dans
MRS Proceedings
Volume
507
Pages
565-570
Date
1998
Note
IMT-NE Number: 277
Laboratoires
PV-LAB
Le document apparaît dans
Production scientifique et compétences > STI - Faculté des sciences et techniques de l'ingénieur > IEM - Institute of Electrical and Micro Engineering > PV-LAB - Laboratoire de photovoltaïque et couches minces électroniques
Production scientifique et compétences > Partenaires EPFL > Campus Neuchâtel > PV-Lab - Laboratoire de photovoltaïque et couches minces électroniques
Publications validées par des pairs
Travail hors EPFL
Papiers de conférence
Publié
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Date de création de la notice
2009-02-10