Crystallinity Uniformity of Microcrystalline Silicon Thin Films Deposited in Large Area Radio Frequency Capacitively-coupled Reactors
2008
Détails
Titre
Crystallinity Uniformity of Microcrystalline Silicon Thin Films Deposited in Large Area Radio Frequency Capacitively-coupled Reactors
Auteur(s)
Strahm, B. ; Howling, A.A. ; Hollenstein, Ch.
Publié dans
Amorphous and Polycrystalline Thin-Film Silicon Science and Technology—2008
Série
MATERIALS RESEARCH SOCIETY SYMPOSIUM PROCEEDINGS, 1066
Pages
3-14
Présenté à
Symposium on Amorphous and Polycrystalline Thin-Film Silicon Science and Technology held at the 2008 MRS Spring Meeting, San Francisco, CA, March 25-28, 2008
Date
2008
Autres identifiant(s)
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Laboratoires
CRPP
SPC
SPC
Le document apparaît dans
Production scientifique et compétences > SB - Faculté des sciences de base > SPC - Swiss Plasma Center > SPC - Swiss Plasma Center
Papiers de conférence
Travail produit à l'EPFL
Papiers de conférence
Travail produit à l'EPFL
Date de création de la notice
2009-01-28