Application of the shaped electrode technique to a large area rectangular capacitively-coupled plasma reactor to suppress standing wave nonuniformity
2005
Détails
Titre
Application of the shaped electrode technique to a large area rectangular capacitively-coupled plasma reactor to suppress standing wave nonuniformity
Auteur(s)
Sansonnens, L. ; Schmidt, H. ; Howling, A.A. ; Hollenstein, Ch. ; Ellert, C. ; Buechel, A.
Présenté à
AVS 52st Int. Symposium & Exhibition
Date
2005
Note
AVS 52st Int. Symposium & Exhibition, Boston, USA, October 30 - November 1, 2005
Laboratoires
CRPP
SPC
SPC
Le document apparaît dans
Production scientifique et compétences > SB - Faculté des sciences de base > SPC - Swiss Plasma Center > SPC - Swiss Plasma Center
Publications validées par des pairs
Papiers de conférence
Travail produit à l'EPFL
Publié
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Travail produit à l'EPFL
Publié
Date de création de la notice
2008-05-13