High-rate large-area silicon deposition by VHF plasma
2005
Détails
Titre
High-rate large-area silicon deposition by VHF plasma
Auteur(s)
Sansonnens, L. ; Hollenstein, Ch. ; Feitknecht, L. ; Shah, A. ; Ballif, Ch. ; Kroll, U.
Présenté à
Technical Symposium on CSEM
Date
2005
Note
Technical Symposium on CSEM, EPFL & IMT collaboration day, Micro and Nano Technology, Neuchatel, 17 October 2005
Laboratoires
CRPP
SPC
SPC
Le document apparaît dans
Production scientifique et compétences > SB - Faculté des sciences de base > SPC - Swiss Plasma Center > SPC - Swiss Plasma Center
Publications validées par des pairs
Papiers de conférence
Travail produit à l'EPFL
Publié
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Travail produit à l'EPFL
Publié
Date de création de la notice
2008-05-13