Non-intrusive in situ measurement of residual charge on the substrate
1997
Détails
Titre
Non-intrusive in situ measurement of residual charge on the substrate
Auteur(s)
Sansonnens, L. ; Howling, A.A. ; Hollenstein, Ch. ; Perrin, J.
Publié dans
Proc. 3rd Int. Conference on Reactive Plasmas
Présenté à
3rd Int. Conference on Reactive Plasmas
Date
1997
Note
Proc. 3rd Int. Conference on Reactive Plasmas, Nara, Japan, January 1997, p. 309 (1997)
Laboratoires
CRPP
SPC
SPC
Le document apparaît dans
Production scientifique et compétences > SB - Faculté des sciences de base > SPC - Swiss Plasma Center > SPC - Swiss Plasma Center
Publications validées par des pairs
Papiers de conférence
Travail produit à l'EPFL
Publié
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Date de création de la notice
2008-05-13