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Déposition assistée par un plasma à arc à haut courant continu de couches minces de Nitrure de Bore et de Silicium microcristallin hydrogéné
Franz, D.
1999
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Détails
Titre
Déposition assistée par un plasma à arc à haut courant continu de couches minces de Nitrure de Bore et de Silicium microcristallin hydrogéné
Auteur(s)
Franz, D.
Date
1999
Mots-clés (libres)
LRP 645
Laboratoires
CRPP
SPC
Le document apparaît dans
Production scientifique et compétences
>
SB - Faculté des sciences de base
>
SPC - Swiss Plasma Center
>
SPC - Swiss Plasma Center
Travail produit à l'EPFL
Rapports techniques
Publié
Date de création de la notice
2008-04-18
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