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Déposition assistée par un plasma à arc à haut courant continu de couches minces de Nitrure de Bore et de Silicium microcristallin hydrogéné
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Déposition assistée par un plasma à arc à haut cou[...]
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Franz, D.
main
file(s):
lrp_645_99_hq
version 1
lrp_645_99_hq.pdf
[13.58 MB]
27 Jan 2018, 13:05
n/a