Electrostatic charging: Mechanism of substrate charging after plasma processing
2001
Détails
Titre
Electrostatic charging: Mechanism of substrate charging after plasma processing
Auteur(s)
Belinger, A. ; Bulkin, P. ; Delaunay, L. ; Elyaakoubi, M. ; Perrin, J. ; Schmitt, J. ; Turlot, E. ; Hollenstein, Ch. ; Howling, A.A. ; Sansonnens, L.
Publié dans
Panels (Business & Technical news from Unaxis Displays)
Pages
19-21
Date
2001
Laboratoires
CRPP
SPC
SPC
Le document apparaît dans
Production scientifique et compétences > SB - Faculté des sciences de base > SPC - Swiss Plasma Center > SPC - Swiss Plasma Center
Publications validées par des pairs
Travail produit à l'EPFL
Articles de journaux
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Date de création de la notice
2008-04-16