Dry Etching Techniques of Amorphous Silicon for Suspended Metal Membrane RF MEMS Capacitors
2002
Détails
Titre
Dry Etching Techniques of Amorphous Silicon for Suspended Metal Membrane RF MEMS Capacitors
Auteur(s)
Fritschi, R. ; Hibert, C. ; Flückiger, Ph. ; Ionescu, A. M.
Publié dans
MRS Proceedings
Volume
729
Pages
U2.7
Présenté à
MRS Spring Meeting
Date
2002
Autres identifiant(s)
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Laboratoires
NANOLAB
Le document apparaît dans
Production scientifique et compétences > STI - Faculté des sciences et techniques de l'ingénieur > IEM - Institute of Electrical and Micro Engineering > NANOLAB - Laboratoire des dispositifs nanoélectroniques
Papiers de conférence
Travail produit à l'EPFL
Publié
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Date de création de la notice
2007-10-10