Tridimensional characterization of voids in self-annealed implanted silicon using electron holography
1997
Détails
Titre
Tridimensional characterization of voids in self-annealed implanted silicon using electron holography
Auteur(s)
Beeli, C ; Matteucci, G ; Migliori, A ; Lulli, G ; Merli, PG
Publié dans
Helvetica Physica Acta
Volume
70
Pages
3-4
Date
1997
Autres identifiant(s)
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Laboratoires
CIME
Le document apparaît dans
Production scientifique et compétences > SB - Faculté des sciences de base > CIME - Centre interdisciplinaire de microscopie électronique
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Date de création de la notice
2007-02-15