Oxygen impurity effects on the formation of thin titanium silicide films by rapid thermal annealing
1990
Détails
Titre
Oxygen impurity effects on the formation of thin titanium silicide films by rapid thermal annealing
Auteur(s)
Heintze, M ; Catana, A ; Schmid, PE ; Lévy, F ; Stadelmann, PA ; Weiss, P
Publié dans
Journal of Physics D: Applied Physics
Volume
23
Numéro
8
Pages
1076-1081
Date
1990
Autres identifiant(s)
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Laboratoires
CIME
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Production scientifique et compétences > SB - Faculté des sciences de base > CIME - Centre interdisciplinaire de microscopie électronique
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Date de création de la notice
2007-02-15