High resolution electron microscopy of ion implanted and annealed silicon
1989
Détails
Titre
High resolution electron microscopy of ion implanted and annealed silicon
Auteur(s)
Ruterana, P ; Stadelmann, PA ; Buffat, PA
Publié dans
Microscopy of Semiconducting Materials. Proceedings of the Royal Microscopical Society Conference
Editeur(s)
Série
Institute of Physics Conference Series, 100
Pages
39-44
Présenté à
Royal Microscopical Society Conference, Oxford University, 10-13 April 1989
Date
1989
ISBN
0-85498-056-3
Laboratoires
CIME
Le document apparaît dans
Production scientifique et compétences > SB - Faculté des sciences de base > CIME - Centre interdisciplinaire de microscopie électronique
Publications validées par des pairs
Papiers de conférence
Travail produit à l'EPFL
Publié
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Date de création de la notice
2007-02-15